CVD系統以進口電阻絲瑞典為加熱元件，采用雙層殼體結構和日本島電控溫儀表，能進行40段程序控溫，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。

 

　　適用范圍：

　　CVD系統設備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、裝飾等領域。

　　CVD系統使用特點說明：

　　1、多晶纖維爐膛，節能耐腐蝕：重量輕、升溫速度快、節能、省時、耐高溫、耐腐蝕、保溫性好，能滿足何種快速燒結的要求。

　　2、高純石英爐管爐管采用高純度石英玻璃材料工藝加工：具有極低的熱膨脹系數、耐高溫、化學穩定性好、電絕緣性好。

　　3、雙層內膽爐殼雙層內膽爐殼，配有風冷系統，快速升降溫：整個爐體采用雙層內膽式結構，中間有氣隙隔離，即使爐膛溫度高達1200℃，爐體表面仍然可以安全觸摸無滾燙感覺。

　　4、真空法蘭法蘭采用雙環密封技術：有效的提高了法蘭的氣氛性，法蘭上裝有多種接頭，可接電阻真空計、真空波紋管并能做成容易撤卸的鉸鏈式。

　　5、合金電熱絲內嵌式合金電熱絲，升溫快，壽命長：加熱元件采用內嵌式合金電熱絲，發熱效率高、耐高溫、抗氧化、耐腐蝕、升溫快、壽命長、高溫變形小、安裝維修方便，使用壽命長。

　　6、微電腦PID控制器微電腦PID控制器，操作簡便：操作簡便，控溫、可靠、安全多段可編程控制，可以簡化復雜的試驗過程，真正實現自動控制和運行。