天津中環高真空CVD系統電爐是一家集研發、生產制造、營銷服務為一體的的實驗室電爐工作系統解決方案的提供者。作為實驗室電加熱設備的生產廠家，在實驗室電爐行業國內市場一直保持著地位，并成為*品牌。

通過公司技術人員的開發，zui近研制出多套CVD系統，高真空CVD系統在碳納米材料，真空鍍膜領域廣泛使用，PE獲得客戶廣泛好評。

CVD系統產品的特點：
1 CVD系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
2 CVD系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長
3 CVD系統使用計算機控制，可以設置多種生長參數
4 CVD系統可以制備高質量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達數厘米，研究動力學過程
5 CVD系統沉積效率高；薄膜的成分可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數毫米，可以實現厚膜沉積且能大量生產

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