CVD管式爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長等等。也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理。

　　CVD管式爐的使用溫馨提示：

　　1、當電爐*次使用或停用后再次使用時，必須進行一次烘爐干燥，烘爐時間為：室溫――200℃ 2小時，200℃――600℃ 2小時，使用時爐溫不得超過zui高溫度，以免燒毀電熱原件。

　　2、使用時爐溫不得超過zui高爐溫。

　　3、電爐和控制器必須在相對濕度不超過85%，沒有導(dǎo)電塵埃、爆炸性氣體和能夠破壞金屬絕緣以及對電子原件有害的腐蝕性氣體的場所工作。

　　4、電爐和控制器應(yīng)在環(huán)境溫度0～50℃，在搬運時須用導(dǎo)線將儀表后端接線板上“短”與“短”連線接好，以防振動而損壞儀表。

　　5、禁止向爐膛內(nèi)灌注各種液體及熔融的金屬。

　　6、取放試樣時，應(yīng)先切斷電源，以防觸電。

　　7、定期檢查電爐、控制器各接線頭接觸是否良好，指示儀指針運動時有無卡滯現(xiàn)象，并用電位差計核對指示儀刻度誤差是否大。