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真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環境下進行高溫熱處理的精密實驗設備。該設備采用高潔凈度的石英腔體，配合精密的溫度控制系統與氣體氛圍調控系統，能夠滿足對材料潔凈度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發等領域。
真空氣氛箱式爐技術參數：
產品名稱 | 真空氣氛爐 |
產品型號 | ZKX-200F |
最高溫度 | 1100℃ |
工作溫度 | ≤1000℃ |
爐膛尺寸 | Φ210/φ200*385 |
恒溫區 | Φ200*200mm |
承重范圍 | ≤2Kg |
爐膽材質 | 石英 |
加熱元件 | 電阻絲 |
測溫元件 | 熱電偶K偶 |
升溫速率 | 0-1000℃≤10℃/min；1000℃~1100℃≤5℃/min |
控溫方式 | 智能化30段可編程控制（PID獨立控制調節） |
控溫精度 | ±1℃ |
真空度 | 真空度：-0.1MPa（機械泵4L） |
水冷制冷量 | 1.5w |
水冷容積 | 6L |
額定電壓 | 220V |
額定功率 | 10KW |
爐體尺寸 | 570*915*640mm（深*寬*高） |
標準配置 | 氣路總成一套（含真空壓力表），石英膽一個，隔熱堵一個，鉤子一把，手套一副 |
選配 | 中真空度：≥10Pa（機械泵8L） 高真空：＞6*10-2Pa（分子泵機組） |
