1200℃滑動雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
PECVD系統(tǒng)配置：1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
其他信息
產品型號：
更新時間：2025-02-27
廠商性質：生產廠家
瀏覽次數：10998
產品中心
產品分類Product Categories
相關文章Related Article
PECVD系統(tǒng)制備非晶硅薄膜的微觀結構與光電特性分析
PECVD系統(tǒng)在薄膜沉積領域的應用和發(fā)展
PECVD系統(tǒng)配置：1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產品型號：
更新時間：2025-02-27
廠商性質：生產廠家
瀏覽次數：10998
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品型號：
更新時間：2025-02-27
廠商性質：生產廠家
瀏覽次數：24599
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G
產品型號：
更新時間：2025-02-27
廠商性質：生產廠家
瀏覽次數：7824
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G
產品型號：
更新時間：2025-02-27
廠商性質：生產廠家
瀏覽次數：9814
電話：022-26980130
郵箱：15122725930@163.com
地址：天津市北辰經濟開發(fā)區(qū)雙川道11號
官方客服號
Copyright © 2026 天津中環(huán)電爐股份有限公司版權所有 備案號：津ICP備18009408號-2 技術支持：化工儀器網 管理登錄 sitemap.xml
