技術文章
CVD（化學氣相沉積）系統，通過氣態前驅體在基體表面發生化學反應，生成固態薄膜涂層，可制備金屬、陶瓷、半導體、金剛石、各類功能薄膜，薄膜均勻性好、附著力強，廣泛用于半導體、新能源、新材料、航空航天、科研高校等領域。1.半導體與微電子行業芯片制造核心工藝：沉積多晶硅、氧化硅、氮化硅...
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管式真空爐主要用于陶瓷，冶金，化工，玻璃，氣體還原等等，使用簡捷方便。管式真空爐采用雙層殼體結構和16段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做粉末、陶瓷燒結、高溫實驗、質量檢測用的理想產品。*的爐膛設計，側開門，從左往右，爐門可顯著，經久耐用;;溫控儀是雙行LED顯示表盤，主要用于控溫，控溫精度高(正負1度)，反應靈敏，可編程PID控制，帶有偏差，超溫報警并斷電保...
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快速退火爐具有升溫速度快、密封好、溫度范圍寬、實驗方便等特點。真空快速退火爐的應用領域：-離子注入/接觸退火；-快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；-可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環境下使用；-SiAu,SiAl,SiMo合金化；-低介電材料；-晶體化，致密化；-太陽能電池片鍵合快速退火爐適用于下列工作條件：（1）環境溫度在-10～75℃之間。（2）周圍環境的相對濕度不超過85%。（3）爐子周圍沒有導電塵埃，爆炸...
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真空馬弗爐爐膛材料采用的多晶莫來纖維真空吸附制成，節能50%，四面加熱溫場均勻。加熱元件采用1700度的硅鉬棒。的空氣隔熱技術，結合熱感應技術，當爐體表面溫升到達50℃時，排溫風扇將自動啟動，使爐體表面快速降溫。真空馬弗爐的維護及注意事項：1、停用后，再次使用時，須進行烘爐。使用1000℃電阻爐使用1200℃電阻爐（室溫-200℃4小時200℃-600℃4小時）使用1300℃電阻爐（室溫-200℃1小時、200℃-500℃2小時、500℃-800℃3小時）2、箱式爐及控制器必...
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可視化高溫形變分析儀TA-16A01/TA-Z16A01材料燒結過程膨脹收縮測試的這些問題是否困擾著您？1、盲燒實驗反復燒結測試，費時費力？2、傳統測試（頂桿法）只能測單一方向形變，橫向縱向非等比變化怎么辦？3、測試樣品要求苛刻制樣麻煩？4、測試前確定基線難，需要校正，準備時間長？可視化高溫形變分析儀，光學非接觸法測量材料燒結過程膨脹收縮。材料在變溫過程中形狀、尺寸及物態變化在線實時觀測，并通過智能化數據采集與圖像處理系統給出直觀、的數據及圖形報告，產品性能與同類產品相當，處...
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真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛燒結爐等，一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統、供電系統和控溫系統等組成。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生產及實驗。真空氣氛爐的原理：物體在通入一定氣體的爐膛內進行燒結的方法。不同的材料選擇適宜的氣氛燒結，有助于燒結過程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛...
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箱式爐設備是英文Furnace翻譯過來的。按箱式爐設備的特性分有箱式電阻爐，坩堝爐，馬弗爐。按國籍分有國產箱式爐和進口箱式爐。按加熱元件區分有：電阻絲馬弗爐、硅碳棒箱式爐、硅鉬棒箱式爐;按額定溫度來區分一般分為：1100度箱式爐，1200度箱式爐，1400度箱式爐，1600度箱式爐，1700度爐，1800度箱式爐。按控制器來區分有如下幾種：指針表，普通數字顯示表，PID調節控制表，程序控制表;按保溫材料來區分有：普通耐火磚和陶瓷纖維兩種。箱式爐系周期作業式，供實驗室、工礦企業...
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鼓風干燥箱適用于工礦業企業實驗室，醫藥衛生，科研單位做干燥，烘焙，熔蠟，滅菌，固化使用。鼓風干燥箱的使用方法：1.將被干燥的物品放入干燥箱內，確認電源開關處于關閉狀態然后關好箱門再接通電源啟動開關和風機開關，以免電流過大對儀器構成損害：2.調節控溫儀，設定所需溫度參數，此時加熱指示燈亮，加熱器工作，空文標上方顯示箱內溫度。一般情況下，加熱30分鐘后溫度控制進入恒溫狀態。3.當所需工作溫度較低時，可采用二次設定方法，如需工作溫度80℃，這樣可降低甚至杜絕溫度過沖現象，使箱內盡快...
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