網(wǎng)站首頁 產(chǎn)品系列 CVD系統(tǒng)/PECVD系統(tǒng) CVD系統(tǒng) 石墨烯系統(tǒng)
返回列表更新時(shí)間:2025-02-27
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
瀏覽量:8926
產(chǎn)品分類Product Categories
相關(guān)文章Related Article
CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 薄膜制備好幫手
PECVD系統(tǒng)原理深度剖析:射頻電源與等離子體激發(fā)機(jī)制
PECVD系統(tǒng)制備非晶硅薄膜的微觀結(jié)構(gòu)與光電特性分析
1 石墨烯系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長(zhǎng)模式
2 石墨烯系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(zhǎng)
3 使用計(jì)算機(jī)控制,可以設(shè)置多種生長(zhǎng)參數(shù)
4 可以制備高質(zhì)量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達(dá)數(shù)厘米,研究動(dòng)力學(xué)過程
5 沉積效率高;薄膜的成分精確可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數(shù)毫米,可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)
產(chǎn)品性:
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成:
PECVD系統(tǒng)配置:
1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)
產(chǎn)品特點(diǎn):
生長(zhǎng)溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設(shè)備簡(jiǎn)單。
電話:022-26980130
郵箱:15122725930@163.com
地址:天津市北辰經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)雙川道11號(hào)
關(guān)于我們
公司簡(jiǎn)介 企業(yè)文化 榮譽(yù)資質(zhì)產(chǎn)品中心
熱分析系列儀器 焦耳熱快燒爐 高溫水氧腐蝕測(cè)試系列 箱式電爐系列 管式電爐系列 立式管式電爐快速通道
關(guān)于我們 新聞中心 產(chǎn)品中心 技術(shù)文章 在線留言 聯(lián)系我們官方客服號(hào)

Copyright © 2026 天津中環(huán)電爐股份有限公司版權(quán)所有 備案號(hào):津ICP備18009408號(hào)-2 技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng) 管理登錄 sitemap.xml