技術文章
CVD（化學氣相沉積）系統，通過氣態前驅體在基體表面發生化學反應，生成固態薄膜涂層，可制備金屬、陶瓷、半導體、金剛石、各類功能薄膜，薄膜均勻性好、附著力強，廣泛用于半導體、新能源、新材料、航空航天、科研高校等領域。1.半導體與微電子行業芯片制造核心工藝：沉積多晶硅、氧化硅、氮化硅...
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真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛燒結爐等物體在通入一定氣體的爐膛內進行燒結的方法。不同的材料選擇適宜的氣氛燒結，有助于燒結過程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛高溫爐由爐體、加熱室、真空系統、充放氣系統、風冷循環系統、電控系統、氣動系統，水冷系統及料車組成。真空氣氛爐一般在春秋季節泄漏故障較多，閑置的真空爐在才次使用時真空爐泄漏故障比較易發生。下面分享一些真空氣氛爐常見的故障以及排除方法：1.在高溫試驗中，如溫度變化達不到試驗溫度值時，可以檢查電器系統，逐...
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旋轉管式爐旋轉管式爐是一種輕體化連續式電爐，廣泛應用于化工粉末、顆粒等產品的快速燒成，具有燒成周期短、勞動強度低等優點。主要運用于粉末顆粒，化工，納米稀土石墨烯，耐材，鋰電正負極材料，新能源等行業測定材料在一定氣氛條件下的設備。如果您需要保持物料的單顆粒結構(如在干燥或煅燒物料時)，旋轉管式爐是您的選擇。持續不斷的管旋轉運動和保護氣的應用將為您帶來*的處理結果。旋轉管式爐結構1、外殼爐殼主要采用鋼板與型材焊接而成，進料口用精加工件與硅橡硅密封，外殼并裝有可裝卸防護板，防護板采...
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真空快速退火爐，主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材、水脹件、銷、醫療器械、不銹鋼釘、不銹鋼鏍絲、壓鉚件、不銹鋼軸承、表殼、表帶、刀具、微型軸、自攻自鉆、餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火、固溶、退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐真空快速退火爐設備用途主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材、水脹件、銷、醫療器械、不銹鋼釘、不銹鋼鏍絲、壓鉚件、不銹鋼軸承、表殼、表帶、刀具、微型軸、自攻自鉆、餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火、固溶、退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐。處理...
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隨著現在工業技術的發展，使得各行各業企業開始拋棄傳統的設備，在傳統工業中燃料的發展已經逐漸被電爐取代，現在電爐的應用范圍也是越來越廣。如今，電阻爐設備已經擴展到家庭、醫藥等多個領域，也是的現在工業技術飛速發展起來。箱式真空氣氛爐適用于工礦企業、大專院校、科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品用。可供化學分析、物理測定以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。氣氛爐是一種實驗設備，適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接以及真空氣...
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立式高溫管式爐采用進口氧化鋁多晶體纖維固化爐膛，保溫性能好，電阻絲加熱，采用智能化程序控溫系統，可抽真空，通氣氛。外形美觀大方、結構設計合理，使用方便，安全可靠。主要用途和適用范圍：高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等實驗。主要功能和特點：1、高溫石英管/剛玉管/合金管，*的連接方式，可以通入各種不同的保護氣氛;2、爐膛采用進口氧化鋁多晶纖維材料，保溫性能好，耐用，拉伸強度高，無雜球，純度高，節能效果明顯;3、加熱元件采用合金絲0Cr27A...
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CVD系統設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域實驗機理：CVD成長系統是利用氣態化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發生化學反應，從而在基體表面上生成不揮發涂層的一種薄膜材料制備系統CVD系統產品的特點：1CVD系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式2CVD系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意...
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CVD管式爐廣泛用于：真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。該系統技術成熟、質量可靠;設備操作采用全數控觸摸界面，豐富的圖形界面提示，使得設備的操作異常簡單、方便;設備的各項技術參數更是一目了然，設備的運行狀態盡在您的掌控之中。該系統是材料實驗室*的理想設備之一。采用雙層殼體結構，并帶有風冷系統，使得殼體表面溫度小于55℃.內內爐膛表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。真空密封系統有兩個不銹鋼密封法蘭，zui大漏氣率6mtorr...
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