網(wǎng)站首頁 產(chǎn)品系列 CVD設備/PECVD系統(tǒng) CVD設備 1200℃,CVD設備,化學氣相沉積爐,實驗室電爐
返回列表更新時間:2026-09-14
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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產(chǎn)品分類Product Categories
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多功能模塊化CVD系統(tǒng)|二維材料、薄膜、晶體材料制備一站式解決方案
CVD集成系統(tǒng)-產(chǎn)品介紹:1200℃,CVD設備,化學氣相沉積爐,實驗室電爐
CVD集成系統(tǒng)是一套完備的集成控制的CVD系統(tǒng),控制部分采用了中環(huán)自主研發(fā)的實驗電爐 A10智能控制系統(tǒng),使得操作更加簡便,可實現(xiàn)沉積生長過程自動化集成控制,重復精度高,操作簡單,提高效率,降低成本。適用于經(jīng)典化學氣相沉積工藝。

產(chǎn)品用途:
CVD集成系統(tǒng)可用于二維材料制備、石墨烯生長、TMDs材料制備、二硫化鉬、薄膜材料制備、氧化物薄膜、碳化物薄膜、氮化物薄膜、金屬涂層、碳納米管生長、Zn0納米結(jié)構(gòu)生長、新晶體材料、陶瓷纖維、陶瓷電容氣氛燒結(jié)、粉體材料氣氛燒結(jié)、非晶態(tài)合金、金剛石薄膜等
CVD集成系統(tǒng)配置:
1.PLC集成控制系統(tǒng)
2.1200°C開啟式管式爐
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空控制系統(tǒng)(可選配中真空/高真空)
5.電動滑軌系統(tǒng)
CVD集成系統(tǒng)參數(shù):1200℃,CVD設備,化學氣相沉積爐,實驗室電爐
系統(tǒng)名稱 | CVD集成系統(tǒng) | |
名稱 | 單溫區(qū)CVD集成系統(tǒng) | 雙溫區(qū)CVD集成系統(tǒng) |
系統(tǒng)型號 | CVD-12H-1-3Z/G-A | CVD-12H-2-3Z/G-A |
最高溫度 | 1200℃ | |
加熱區(qū)長度 | 200mm | 420mm |
恒溫區(qū)長度 | 70mm | 200mm |
溫區(qū) | 單溫區(qū) | 雙溫區(qū) |
石英管管徑 | Φ50/Φ60/Φ80/Φ100mm | |
額定功率 | 1.2Kw | 3.2Kw |
額定電壓 | 220V | |
滑動距離 | 200mm | 380mm |
滑動方式 | 手動滑動/自動滑動(由溫度控制器自動控制移動。當程序完成,爐子按設定的速度滑動) | |
溫度控制 | 國產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫 | |
控制精度 | ±1℃ | |
長期工作溫度 | ≤1100℃ | |
氣路法蘭 | 采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接 | |
排風冷卻裝置 | 先進的空氣隔熱技術(shù),結(jié)合熱感應技術(shù),當爐體表面溫升到50℃時,排溫風扇將自動啟動,使爐體表面快速降溫 | |
氣體控制方式 | 質(zhì)量流量計(按鍵式) | |
氣路數(shù)量 | 1~3路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量) | |
流量范圍 | 0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定 | |
精度 | ±1%F.S | |
響應時間 | 1sec | |
工作溫度(流量計) | 5-45℃ | |
工作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力) | |
進氣方式 | 采用防倒流設計 | |
規(guī)格 | 中真空 | |
系統(tǒng)真空范圍 | 10-100Pa | |
真空泵 | 雙極機械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽泣速率4L/S(選配:其它抽速真空泵),出氣口 配有油霧過濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw | |
爐體外形尺寸 | 360×580×555mm | |
系統(tǒng)外形尺寸 | 530×1440×750mm | |
系統(tǒng)總重量 | 230Kg | |
電話:022-26980130
郵箱:15122725930@163.com
地址:天津市北辰經(jīng)濟開發(fā)區(qū)雙川道11號
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